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詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器
Eksma 線性偏振激光束990-0070的可變衰減器
具有?17 mm透明孔徑的可變衰減器，由兩個薄膜Brewster型偏振片和一個安裝在精密光機械裝置中的波片組成。衰減器設計允許在很寬的動態(tài)范圍內控制兩個出射光束之間的強度。
產品介紹
?將激光束分為兩束可手動調節(jié)強度比的平行束
?大動態(tài)范圍
?透射光束偏移?0.5毫米
?高光學損傷閾值
?S-Pol衰減范圍?0.25％-99.0％
?P-Pol衰減范圍?0.5％-95.0％
該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光電機械適配器和精密光電機械支架840-0197。適配器中裝有兩個薄膜布魯斯特型偏振片，它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。
可以通過旋轉波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數。可以在很寬的動態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°，并獲得較大的偏振對比度。
注意：可移動基座820-0090，桿架820-0050-02和標準桿應單獨訂購。
產品型號
適用于Nd：YAG激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0070-355 | 355 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0070-532 | 532 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0070-1064 | 1064 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
飛秒應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0070-257 | 257 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-266 | 266 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-343 | 343 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-400 | 400 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-400B | 390-410 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-515 | 515 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-515B | 505-525 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-800 | 800 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-800B | 780-820 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-1030 | 1030 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-1030B | 1010-1050 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
適用于高功率飛秒激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0070-257H | 257 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-266H | 266 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-343H | 343 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-400H | 400 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-400HB | 390-410 | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-515H | 515 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-515HB | 505-525 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-800H | 800 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-800HB | 780-820 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-1030H | 1030 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0070-1030HB | 1010-1050 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
對于Nd：YAG應用
通光孔徑 | 17 mm |
損害閾值 | 5 J/cm2 |
偏振比（一個偏振片之后） | >1:200 |
偏振比（二偏振片之后） | >1:500 |
飛秒應用
通光孔徑 | 17 mm |
損害閾值 用于大功率激光應用 | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
時間分散 |
|
偏振比（一個偏振片之后） |
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偏振比（二個偏振片之后） |
|
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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